Paso 5: Exponer la oblea con el Photomask
A continuación aplica photoresist a una oblea de silicio fresco y expone la oblea a una corta ráfaga de luz UV intensa a través de la fotomáscara.
Preparación de la oblea:
Resistencia manual ruleta:
Cartilla: P-20: 3 rpm k, 1 k/s, 30 s
Fotoprotección: S1827: 3 rpm k, 1 k/s, 30 s
Placa:
Hornear @ 115 C para 1 min
Exposición:
EV620 En contacto con alineador:
Modo: Duro contacto
Tiempo: 5 s